이공학계열
관련 산업체
광전자 에너지 정밀 측정
1) 금속 및 반도체순수 표면의 상 전이에 따른 전자 구조의 변화
2) 재배열 원자들의 전하분포 및 결합 에너지 변화
3) 기체 및 금속이 흡착된 반도체와 금속표면에서의 반응성 및 결합 상태에 따른 전자구조
4) 자성체 초 박막 및 에피 박막의 전자에너지
5) Submicro 이하의 국소 영역의 성분 분석
6) Depth profile을 통한 박막의 성장 메카니즘 규명
7) 표면의 원소에 대한 정량 분석
XPS는 시료의 표면에 특성 X-선을 입사하여, 방출하는 광전자의 에너지를 측정함으로써 시료표면의 조성 및 화학적인 결합상태를 알 수 있다. 에너지원으로 X-선이 사용되어 절연체에 적용이 가능함으로 도체 및 반도체 절연박막의 분석에 큰 장점을 가지고 있다. 또한 이온빔으로 표면을 식각하여 깊이에 대한 분포도를 측정할 수 있다.
- X-ray photoelctron spectroscopy(XPS)
- X-ray source : monochromated AI Kα
- Ultimate energy resolution
